[发明专利]一种四分之一波长相移光栅的制作方法有效
| 申请号： | 201310010352.0 | 申请日： | 2013-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN103091752A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 阳红涛;刘应军;胡忞远;熊永华 | 申请（专利权）人： | 武汉电信器件有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 黄挺 |
| 地址： | 430074 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种四分之一波长相移光栅的制作方法，该方法步骤为：（1）一次匀胶：在外延片表面进行匀胶，涂敷紫外正性反转光刻胶，烘干，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（2）二次匀胶：步骤（1）所得产品进行二次匀胶，涂敷紫外正性光刻胶，烘干，在全息光栅系统中进行曝光，在110~130℃条件下烘烤1~5分钟，光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（3）用HBr、Br2和H2O组成的腐蚀液进行腐蚀，去除光刻胶后得到四分之一波长相移光栅。本发明的方法不需要购买昂贵的电子束光刻设备，用全息光栅系统和现有的普通光刻机就可以完成工艺。工艺过程简单、耗时短，普通工人即可操作，适合批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 四分之一 波长 相移 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
一种四分之一波长相移光栅的制作方法，其特征在于，步骤为：（1）一次匀胶：在外延片表面进行匀胶，涂敷紫外正性反转光刻胶，烘干，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影； （2）二次匀胶：步骤（1）所得产品进行二次匀胶，涂敷紫外正性光刻胶，烘干，在全息光栅系统中进行曝光，然后在110~130℃条件下烘烤1~5分钟，在光刻机上选择专用光刻版进行曝光后显影；（3）用HBr 、Br2和H2O组成的腐蚀液进行腐蚀，去除光刻胶后得到四分之一波长相移光栅。
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