[发明专利]涂布剂组合物和由其制备的具有高耐划伤性且同时具有良好的可抛光性的涂层及其用途

摘要

本发明的主题是非水性涂布剂组合物，包含（A）至少一种含多羟基的化合物，（B）至少一种具有自由或封闭异氰酸酯基团的含多异氰酸酯基团的化合物，和（D）至少一种用于硅烷基团的交联的催化剂，其中组分（B）包含至少一种结构单元-NR-(X-SiR"x(OR')3-x)（I），和至少一种结构单元-N(X-SiR"x(OR')3-x)n(X'-SiR"y(OR')3-y)m（II），条件是（i）在组分（B）中大于30摩尔%且小于70摩尔%的原本存在的异氰酸酯基团已反应生成结构单元（I）加（II），（ii）在组分（B）中大于25摩尔%且小于36摩尔%的原本存在的异氰酸酯基团已反应生成结构单元（II），和（iii）涂布剂组合物包含作为组分（B）的至少一种含多异氰酸酯基团的化合物（B2），所述化合物（B2）具有自由或封闭异氰酸酯基团并且具有非环状脂族多异氰酸酯基体。本发明的主题还有多步涂布方法以及所述涂布剂组合物的用途。

主权项

非水性涂布剂组合物，包含（A）至少一种含多羟基的化合物（A），（B）至少一种具有自由和/或封闭异氰酸酯基团的含多异氰酸酯基团的化合物（B），和（D）至少一种用于硅烷基团的交联的催化剂（D），其中组分（B）包含至少一种式（I）的结构单元‑NR‑(X‑SiR"x(OR')3‑x)   （I），和至少一种式（II）的结构单元‑N(X‑SiR"x(OR')3‑x)n(X'‑SiR"y(OR')3‑y)m   （II）其中R=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可以被不相邻的氧‑基团、硫‑基团或NRa‑基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，R'=氢、烷基或环烷基，其中碳链可以被不相邻的氧‑基团、硫‑基团或NRa‑基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，X、X'=具有1至20个碳原子的线性和/或支化的亚烷基或亚环烷基，R"=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可以被不相邻的氧‑基团、硫‑基团或NRa‑基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，n=0至2，m=0至2，m+n=2，以及x、y=0至2，条件是（i）在组分（B）中大于30摩尔%且小于70摩尔%的原本存在的异氰酸酯基团已反应生成结构单元（I）加（II），（ii）在组分（B）中大于25摩尔%且小于36摩尔%的原本存在的异氰酸酯基团已反应生成结构单元（II），和（iii）涂布剂组合物包含作为组分（B）的至少一种含多异氰酸酯基团的化合物（B2），所述化合物（B2）具有自由或封闭异氰酸酯基团并且具有非环状脂族多异氰酸酯基体和/或通过三聚、二聚、氨基甲酸酯 化、缩二脲化、脲二酮化和/或脲基甲酸酯化而衍生自这样的非环状脂族多异氰酸酯的多异氰酸酯基体。