[实用新型]一种曝光机基台的清洗装置有效
| 申请号： | 201220704080.5 | 申请日： | 2012-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN202951681U | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 肖磊;卜斌;邓世刚;陈一民 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B1/00;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及设备清洗技术领域，公开了一种曝光机基台的清洗装置。包括：固定架，固定在曝光机上；安装于固定架上的清洗耙本体，清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通容腔的开口；密封开口的塞盖；位于清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与容腔连通、且将容腔内的清洗液引至海绵的导液通道；包裹海绵的无尘布。上述清洗装置在使用时，避免了操作人员手拿沾有清洗液的无尘布去清洗曝光机基台，且清洗装置清理曝光机基台过程中，曝光机的门是关闭的，挥发出的清洗液中的工业酒精将被曝光机空气过滤系统清除。所以，上述曝光机基台的清洗装置，减少操作人员与清洗液直接接触，从而保证操作人员的人身安全。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 机基台 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光机基台的清洗装置，其特征在于，包括：固定架，固定在所述曝光机上；安装于所述固定架上的清洗耙本体，所述清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通所述容腔的开口；密封所述开口的塞盖；位于所述清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与所述容腔连通、且将所述容腔内的清洗液引至所述海绵的导液通道；包裹所述海绵的无尘布。
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