[实用新型]用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置

摘要

本实用新型公开了一种用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；内腔室具有高度可调节的样品台，其外置加热和水冷系统。本实用新型能够准确控制紫外光化学和化学气相干法反应的过程，实现材料和器件的有效清洗和改性，它在材料和纳米光电子器件领域具有重要的应用价值。

主权项

一种用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置，其特征在于，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空控制系统组成，其中，所述紫外光源系统包括相连接的紫外灯控制电源和紫外灯管，所述真空腔室包括外腔室和内腔室，所述外腔室内安装有所述紫外灯管，所述内腔室内设置有所述样品台、加热装置和水冷装置，所述内腔室还设置有气体输入端口、气体输出端口，所述气体输入端口连接有氧气存储装置、氮气存储装置、氩气存储装置、氢气存储装置，能够实现化学气相表面处理，所述紫外灯管发射的光通过所述内腔室的石英窗口，照射到所述样品台上，所述内腔室充有一定压强的氧气；所述真空泵系统和真空控制系统用于产生并控制真空腔室内的真空度。