[实用新型]B超耦合剂加热涂抹装置有效

专利信息
申请号: 201220584505.3 申请日: 2012-10-27
公开(公告)号: CN202843644U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 侯秀芝;闫珩;郑威利 申请(专利权)人: 侯秀芝
主分类号: A61B8/00 分类号: A61B8/00;A61M35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 161000 黑龙江省齐齐哈尔*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 实用新型公开了一种B超耦合剂加热涂抹装置,在耦合剂涂抹辊的顶部装有安装架。涂抹辊的左端装有耦合剂分配罩,其底口开在耦合剂挡板上。操作手柄底部装有耦合剂贮存囊,耦合剂输出管从耦合剂贮存囊的左端引出,进入耦合剂分配罩,耦合剂输入管从耦合剂贮存囊的右端引出与耦合剂瓶的瓶口相通。在耦合剂贮存囊上方的操作手柄中镶有弧面形的耦合剂加热器。本实用新型的有益效果是:使用该装置能够将剂量均匀地涂抹在探头或病人的皮肤上,有利于保证用量准确,而且操作使用也十分方便。
搜索关键词: 耦合 加热 涂抹 装置
【主权项】:
一种B超耦合剂加热涂抹装置,其特征在于:该装置包括耦合剂的涂抹辊(1),在其顶部装有安装架,安装架的顶面为靠近涂抹辊(1)外壁的圆弧形耦合剂挡板(2),两侧为扇面形支承板(3),涂抹辊(1)的旋转轴(4)安装在支承板(3)的底部;涂抹辊(1)的操作手柄(5)为橄榄形,在其左端装有弧面形的耦合剂分配罩(8),耦合剂分配罩(8)的底口开在耦合剂挡板(2)上;操作手柄(5)底部带有椭圆形的凹槽(6),凹槽(6)中装有耦合剂贮存囊(7),耦合剂贮存囊(7)通过布套固定在操作手柄(5)上;耦合剂输出管(9)从耦合剂贮存囊(7)的左端引出,进入耦合剂分配罩(8),耦合剂输入管(10)从耦合剂贮存囊(8)的右端引出,其上端管口与耦合剂瓶的瓶口相通;在耦合剂贮存囊(7)上方的操作手柄(5)中镶有弧面形的耦合剂加热器(11)。
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