[实用新型]纳米硅薄膜压力传感器有效
申请号: | 201220540296.2 | 申请日: | 2012-10-22 |
公开(公告)号: | CN202956241U | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 谢贵久;白庆星;安志超;谢锋;何迎辉;颜志红;黄华山;龚星 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | G01L9/04 | 分类号: | G01L9/04 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种压力传感器,尤其涉及一种采用半导体材料硅制作的纳米硅薄膜压力传感器,将压力腔后端面作为弹性膜片,并在压力腔后端面安装由纳米硅应变材料制成的4个纳米硅薄膜应变电阻,4个纳米硅薄膜应变电阻按压力腔中心轴对称分布构成惠斯登电桥。采用半导体材料硅制作纳米硅薄膜压力传感器,由于纳米硅薄膜电阻应变系数为n+με(微应变)到100με(微应变),纳米硅薄膜压力传感器的输出灵敏度大幅提高,比现有技术的采用金属薄膜应变计的薄膜压力传感器的灵敏度高1-2个数量级。 | ||
搜索关键词: | 纳米 薄膜 压力传感器 | ||
【主权项】:
一种纳米硅薄膜压力传感器,包括前端设有引压嘴(3)的压力腔(1)、一端固定到压力腔(1)后部的外罩(4)和置于压力腔(1)后端的弹性膜片(5),其特征是,所述外罩(4)与压力腔(1)之间形成密封腔体(12),并在外罩(4)上设有航空插头(13);压力腔(1)后端面作为弹性膜片(5),并在压力腔(1)后端面安装由纳米硅应变材料制成的4个纳米硅薄膜应变电阻(10),所述4个纳米硅薄膜应变电阻(10)按压力腔(1)中心轴对称分布构成惠斯登电桥,该惠斯登电桥的输入端与压力腔(1)后端面连接,而惠斯登电桥的输出端与置于密封腔体(12)内的输入输出模块的输入端连接,所述输入输出模块的输出端连接到外罩(4)的航空插头(13)上;所述纳米硅薄膜应变电阻(10)与压力腔(1)后端面之间设有绝缘层(9),而在纳米硅薄膜应变电阻(10)外侧覆有保护层(11)。
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