[实用新型]立式辊磨基础排污结构有效
申请号: | 201220505974.1 | 申请日: | 2012-09-28 |
公开(公告)号: | CN202845106U | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 石光;申占民;赵剑波;容红 | 申请(专利权)人: | 中材(天津)粉体技术装备有限公司;中材装备集团有限公司 |
主分类号: | B02C15/00 | 分类号: | B02C15/00 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300400 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种立式辊磨基础排污结构,包括倾斜固定在机架底座上的排污管和预留在一次土建基础上的排污孔,所述排污管的出口顺序穿过所述机架底座和所述排污孔伸出到立磨本体外部,所述排污管的入口露在二次灌浆区域的上表面,所述排污管的入口高于所述排污管的出口。本实用新型能够有效地使立磨支架内的污油自流排到立磨本体外部。在立磨带有小幅振动的正常工作状态下,避免了污油对立磨基础的侵蚀,很好地保护了立磨基础的完整性,从而提高了立磨长期运行的稳定性。既不增加土建施工成本,也可以最大限度地减少现场设备安装调整的工作量。结构简单、设计合理、现场安装调整方便。 | ||
搜索关键词: | 立式 基础 排污 结构 | ||
【主权项】:
一种立式辊磨基础排污结构,其特征在于:包括倾斜固定在机架底座上的排污管和预留在一次土建基础上的排污孔,所述排污管的出口顺序穿过所述机架底座和所述排污孔伸出到立磨本体外部,所述排污管的入口露在二次灌浆区域的上表面,所述排污管的入口高于所述排污管的出口。
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