[实用新型]可自动清洗凹槽的小转盘有效
| 申请号： | 201220474381.3 | 申请日： | 2012-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN202772118U | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 张巍巍 | 申请（专利权）人： | 江苏格朗瑞科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可自动清洗凹槽的小转盘，包括均匀设置在小转盘上的多个凹槽及对应凹槽的两个真空吸管，凹槽的底部设置有真空吸孔，真空吸管与真空吸孔连通；还设置有对应凹槽的一个真空\非真空管;还设置有对应所述凹槽的一个清洗管。该实用新型增加一个对准凹槽底部的清洗管，在正常状态下该清洗管处于吸真空状态以确保元件固定；当有积尘时，该清洗管吹气以对凹槽进行清理，并通过软件控制间隔吹气以使清洗功能处于最佳状态，避免人工操作，极大提高了工作效率，并避免了凹槽积尘导致的元件飞落状况。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 清洗 凹槽 转盘 | ||
【主权项】：
一种可自动清洗凹槽的小转盘，包括均匀设置在所述小转盘上的多个凹槽及对应所述凹槽的两个真空吸管，所述凹槽的底部设置有真空吸孔，所述真空吸管与真空吸孔连通；还设置有对应所述凹槽的一个真空\非真空管，其特征在于，还设置有对应所述凹槽的一个清洗管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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