[实用新型]金属塑料复层式光罩有效
申请号: | 201220469573.5 | 申请日: | 2012-09-14 |
公开(公告)号: | CN202771152U | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 严启祯;何启源 | 申请(专利权)人: | 世禾科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;B32B15/092;B32B15/082 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 冯志云;郑特强 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型为一种金属塑料复层式光罩,主要运用于光电产品的制造工艺中,该复层式光罩是由金属光罩及形成于该金属光罩表面的树脂层所构成,该树脂层的质地较该金属光罩软,且厚度介于0.02mm~0.06mm,该复层式光罩为一框体并具有至少一图样单元,该图样单元的轮廓形状对应于制程中欲沉积的图样,通过本实用新型的复层式光罩利用该树脂层,能在制程中的夹紧固定作业中,达到缓冲及耐磨的效果,延长该复层式光罩的替换周期及使用寿命,也能提升制造工艺的品质。 | ||
搜索关键词: | 金属塑料 复层式光罩 | ||
【主权项】:
一种金属塑料复层式光罩,用于光电产品的制造工艺中,该复层式光罩为一框体,并形成有至少一个对应于欲沉积图样的图样单元,其特征在于:该金属塑料复层式光罩包括金属光罩及成型于该金属光罩表面的树脂层,该树脂层硬度低于该金属光罩,且该树脂层的厚度介于0.02mm至0.06mm。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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