[实用新型]一种磁瓦一出二模具有效

专利信息
申请号: 201220416520.7 申请日: 2012-08-22
公开(公告)号: CN202701377U 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 马永军 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: B22F3/03 分类号: B22F3/03;B22F5/00;H01F41/02
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 322118 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种磁瓦一出二模具,克服现有技术的磁瓦成型模具结构不合理,贵重材料浪费、结构复杂和加工难度增大的缺陷,提供一种节约贵重材料、加工容易、装配和维修简单,尤其是模具耐用度提高的磁瓦成型模具。包括下模座和下模座,下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模,上模座下部设有上凸模,凹模中间设置有两个上下通透的瓦形内腔,两个瓦形内腔的内弧具有相同的圆心,该圆心与两个瓦形内腔的外弧的圆心为同一个圆心;上凸模的凸模头与瓦形内腔适配,下凸模的凸模头与瓦形内腔适配。本实用新型单独设置凹模,减少贵重且难加工的合金钢用量;减轻热处理工作量;机加工容易、装配和维修简单;降低成本,延长模具寿命。
搜索关键词: 一种 磁瓦一出二 模具
【主权项】:
一种磁瓦一出二模具,包括下模座和下模座,其特征是,下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模,上模座下部设有上凸模,凹模中间设置有两个上下通透的瓦型内腔, 两个瓦型内腔的内弧具有相同的圆心,该圆心与两个瓦型内腔的外弧的圆心为同一个圆心;上凸模的凸模头与瓦型内腔适配,下凸模的凸模头与瓦型内腔适配。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于横店集团东磁股份有限公司,未经横店集团东磁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220416520.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top