[实用新型]基版平面度测量装置有效

专利信息
申请号: 201220359691.0 申请日: 2012-07-24
公开(公告)号: CN202719973U 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 李军;陈保国 申请(专利权)人: 长沙韶光铬版有限公司
主分类号: G01B21/30 分类号: G01B21/30
代理公司: 长沙星耀专利事务所 43205 代理人: 李西宝
地址: 410129*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 基版平面度测量装置,包括用来支撑测量系统的支承杆;至少三支用来支撑所述支承杆并位于支承杆两端的支承腿,支承腿垂直安装于支承杆的两侧;至少三套用于测量待侧元件的平面度而安装于支承杆上的测量系统;测量系统包括一带可弹性伸缩的表杆的测量表、操控测量表水平和垂直方向运动的微调机构、及固定测量表水平和垂直位置的固定机构,测量时,将支承腿放在基准平板的基准面上,然后调整测量表,将测量表均调整为零,实现基准平板的基准面作为测量基准,将支承腿放在待测元件的基面上,然后观察各测量表的变化,读取最大值和最小值,至少在待测元件两个对角线上测量,将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。
搜索关键词: 平面 测量 装置
【主权项】:
一种基版平面度测量装置,用来测量平板型待测元件的平面度,包括用来支撑测量系统的支承杆(2);至少三支用来支撑所述支承杆并位于所述支承杆两端的支承腿(1),所述支承腿(1)垂直安装于所述支承杆(2)的两侧,其特征在于:所述平面度测量装置还包括至少三套用于测量待侧元件的平面度而安装于所述支承杆(2)上的测量系统(4),所述测量系统(4)包括一带可弹性伸缩的表杆(5)的测量表(3)、操控所述测量表水平方向运动的微调机构(7)和垂直方向运动的微调机构(8)、及固定测量表水平和垂直位置的固定机构,测量时,将支承腿(1)放在基准平板的基准面上,然后调整所述测量表(3),将所述测量表(3)均调整为零,实现基准平板的基准面作为测量基准,将支承腿放在待测元件的基面上,然后观察各测量表的变化,读取最大值和最小值,至少在待测元件两个对角线上测量,将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。
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