[实用新型]一种在CVD设备中检测基板破片的装置有效
申请号: | 201220169285.8 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN202658227U | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 张明 | 申请(专利权)人: | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;G01N21/88 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 田洲 |
地址: | 528300 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种在CVD设备中检测基板破片的装置,包括装载腔室,装载腔室的入口的上方设有CCD镜头装置。本实用新型一种在CVD设备中检测基板破片的装置,通过在装载腔室的入口的上方设有CCD镜头装置,通过CCD镜头装置实时拍摄通过装载腔室入口的基板,从CCD镜头装置实时拍摄的图片可以直观的判断基板上是否有裂纹和破损;避免破损的基板进入CVD设备,损坏设备,影响生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 设备 检测 破片 装置 | ||
【主权项】:
一种在CVD设备中检测基板破片的装置,其特征在于,包括装载腔室(1),装载腔室(1)的入口(2)的上方设有若干CCD镜头装置(3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的