[发明专利]一种在纳米材料表面制备10纳米以下亚结构的方法无效

专利信息
申请号: 201210570590.2 申请日: 2012-12-25
公开(公告)号: CN103011064A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 万能;徐涛;张义;孙俊;孙立涛 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 王云
地址: 211189 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种在纳米材料表面制备10纳米以下亚结构的方法,该方法为1)选用结晶良好、直径小于50纳米的金属氧化物纳米线材料;纳米线材料的长度不限;2)将纳米线承载在支撑衬底上;3)将支撑的纳米线放入电子枪的真空腔,抽真空直至电子枪可正常工作的范围;4)打开电子枪,调节电子束的强度和聚焦位置,根据所加工的样品尺度、形状的不同以及具体的需要可以使电子束在样品表面扫描或聚焦;通过控制刻蚀的时间和电子束的强度来控制刻蚀的表面形貌结构;5)刻蚀完成后取出样品即可。本发明的优点是:本方法适用于多种金属氧化物纳米材料,所制备得到的尺度小于10纳米,可大面积制备,操作方便。
搜索关键词: 一种 纳米 材料 表面 制备 10 以下 结构 方法
【主权项】:
一种在纳米材料表面制备10纳米以下亚结构的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)选用结晶良好、直径小于50纳米的金属氧化物纳米线材料;纳米线材料的长度不限;2)将纳米线承载在支撑衬底上得到支撑的纳米线样品;3)将支撑的纳米线样品放入电子枪的真空腔,抽真空直至电子枪可正常工作的范围;4)打开电子枪,调节电子束的强度和聚焦位置,根据所加工的样品尺度、形状的不同以及具体的需要可以使电子束在样品表面扫描或聚焦;通过控制刻蚀的时间和电子束的强度来控制刻蚀的表面形貌结构;5)刻蚀完成后取出样品,即在纳米材料表面得到10纳米以下亚结构。
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