[发明专利]含有酸酐基的有机硅氧烷及其制造方法在审
申请号: | 201210556571.4 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN103172655A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 雨宫正博;小野猪智郎 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;C07F7/08;C08G77/38;C08G77/46;C08L83/06;C08L83/12;C03C17/30 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
有机硅氧烷,其由式[1a]表示,在分子内具有至少1个水解性甲硅烷基和至少1个酸酐基。 |
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搜索关键词: | 含有 酸酐 有机硅 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.有机硅氧烷,其由下述式[1a]表示,在分子内具有至少1个水解性甲硅烷基和至少1个酸酐基,
式中,X表示具有酸酐基的一价烃基,Y表示具有聚醚基的一价烃基,Z表示具有水解性甲硅烷基的一价烃基,R1相互独立地表示氢原子、或者可被卤素原子取代的碳原子数1~20的一价烃基,M1表示从上述X、Y、Z、R1中选择的基团,a、b、c、d分别表示0≤a≤100、0≤b≤100、0≤c≤100、0≤d≤100的整数,不过,a为0时,M1为X,c为1≤c≤100的整数,c为0时,M1为Z,a为1≤a≤100的整数。
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