[发明专利]一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用在审
| 申请号： | 201210528270.0 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN103865400A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;张建;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04;C23F3/06 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用。上述磷酸酯表面活性剂可以保持较高的铜的去除速率，改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口，抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磷酸酯 表面活性剂 停止 抛光 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用，其特征在于，所述的磷酸酯类表面活性剂至少含有如下结构式的一种或多种：![]()
和/或![]()
其中：X=RO,RO-(CH2CH2O)n,RCOO-(CH2CH2O)n;R为C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基（C3H5O3-），n=2~30,M=H,K,NH4，(CH2CH2O)1~3NH3~1和/或Na。
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