[发明专利]一种光学元件透过率的测量方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210524943.5 申请日: 2012-12-07
公开(公告)号: CN103018012A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 周翊;宋兴亮;范元媛;沙鹏飞;赵江山;李慧;鲍洋;张立佳;崔惠绒;王宇 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种光学元件透过率测量方法和相应的装置。其中方法包括:将特定波长的激光光束进行分束,得到两束激光,使之分别通过一个参考光路和一个测量光路;在测量光路上不放置光学元件,测量得到通过参考光路的激光光束的能量E1,通过测量光路的激光能量为E2;在测量光路上放置元学元件,测量得到通过参考光路的激光光束的能量E1’,通过测量光路的激光能量为E3;根据公式T=E1E3/E1’E2计算该光学元件的透过率T。本发明的测量方法和装置采用双光路等光程测量,达到了实时在线测量的目的,能够有效地消除光源能量抖动对测量结果的重复性以及对高透过镜片透过率测定的影响,能够对用于任何紫外脉冲激光器的光学元件透过率实现精确且方便的测量。
搜索关键词: 一种 光学 元件 透过 测量方法 装置
【主权项】:
一种光学元件透过率测量方法,用于测量光学元件对于特定波长的激光光束的透过率,其特征在于,该方法包括如下步骤:将所述特定波长的激光光束进行分束,得到两束激光,使之分别通过一个参考光路和一个测量光路;在测量光路上不放置所述光学元件,测量得到通过参考光路的激光光束的能量E1,通过测量光路的激光能量为E2;在测量光路上放置所述元学元件,测量得到通过参考光路的激光光束的能量E1’,通过测量光路的激光能量为E3;根据公式T=E1E3/E1’E2计算该光学元件的透过率T。
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