[发明专利]一种集光系统防污染保护装置有效

专利信息
申请号: 201210505346.8 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN103108481A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 宗明成;魏志国;徐天伟;孙裕文;黄有为 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00;G03F7/20
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种集光系统防污染保护装置,用于一种集光系统中,所述集光系统包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,所述集光系统防污染保护装置包括:一供气管路,用于传输压力气体;至少一通气孔,位于所述供气管路上,用于喷射所述压力气体;至少一气源,与所述供气管路连接,用于给所述供气管路提供压力气体;其中,所述通气孔与所述通过气路连通,实现通过所述压力气体将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。本发明能够在激光源和集光镜之间通入背离集光镜内表面的气流,进而实现通过气流将光源中的污染物吹离集光镜,从而防止集光镜被污染物污染,达到延长集光镜使用寿命的目的。
搜索关键词: 一种 系统 污染 保护装置
【主权项】:
一种集光系统防污染保护装置,用于一种集光系统中,其特征在于,所述集光系统包括:一激光源,所述激光源用于发生激光束;一真空腔,所述真空腔用于保持真空环境,提供光的存在环境;一集光镜,所述集光镜位于所述真空腔内,用于聚集光;其中,所述集光系统防污染保护装置包括:一供气管路,位于所述真空腔中,且所述供气管路用于传输压力气体;至少一通气孔,位于所述真空腔中,且所述至少一通气孔位于所述供气管路上,用于喷射所述压力气体;至少一气源,所述气源与所述供气管路连接,用于给所述供气管路提供压力气体;其中,所述压力气体通过所述通气孔将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。
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