[发明专利]一种EUV光源污染物收集装置有效
| 申请号： | 201210479101.2 | 申请日： | 2012-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103108480A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 宗明成;孙裕文;李世光;黄有为 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 euv 光源 污染物 收集 装置 | ||
【主权项】：
一种EUV光源污染物收集装置，应用于EUV发光装置，其特征在于，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，所述激光源用于发生激光束，打击靶材，产生等离子体，发出X射线或EUV光；一真空腔，所述真空腔用于保持真空环境，提供EUV光的存在环境；一集光镜，所述集光镜位于所述真空腔内，用于聚集所述EUV光；一喷嘴，所述喷嘴位于所述真空腔的上部，用于提供激光等离子体的靶材；其中，所述EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，所述收集罩位于所述真空腔内，用于在所述激光束冲击所述靶材后收集污染物；一储存装置，所述储存装置位于所述真空腔的下方，用于收集所述靶材和/或所述污染物。
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