[发明专利]半导体激光器椭圆光斑的整形和准直装置有效

专利信息
申请号: 201210472452.0 申请日: 2012-11-20
公开(公告)号: CN102914872A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 李敏;吴东岷 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B27/30;G02B3/06
代理公司: 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 代理人: 孙东风;王锋
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体激光器椭圆光斑整形和准直装置,包括设置于半导体激光器所发射光束的传播路径上的至少一非旋转对称的透镜,其中,所述透镜包括:用于实现对在快轴方向传播的光束进行准直的第一面;以及,用于实现对在慢轴方向传播的光束进行扩束和准直的第二面。本发明的优点至少采用的光学元件少,且尺寸小,同时还能够实现椭圆光斑的整形和准直,充分满足了MEMS振镜微投影仪光学系统的应用需求。
搜索关键词: 半导体激光器 椭圆 光斑 整形 装置
【主权项】:
1. 一种半导体激光器椭圆光斑整形和准直装置,包括设置于半导体激光器所发射光束的传播路径上的至少一非旋转对称的透镜,其特征在于,所述透镜包括:用于实现对快轴方向传播的光束进行准直的第一面,在近轴光学近似下,该第一面的曲率半径表达式为:式中,zy是光束截面为ω1y时对应的传播距离,n0是空气折射率,n是玻璃材料折射率,ω1y是快轴方向光束在第一个面上的光束截面半径及准直后的目标光束半径;以及,用于实现对慢轴方向传播的光束进行扩束和准直的第二面。
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