[发明专利]一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃及其制备方法无效
| 申请号： | 201210443518.3 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102922824A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 韩高荣;高倩;刘涌;李铭;宋晨路;沈鸽;汪建勋 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/34 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开的具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃，在玻璃基板与氧化锡掺氟膜层之间有1～5层硅碳氧薄膜，每层硅碳氧薄膜的厚度为5～30nm，从玻璃基板往氧化锡掺氟膜层方向逐渐变薄，折射率从1.6至1.7呈梯度变化，每层硅碳氧薄膜为纳米硅晶粒镶嵌于非晶的硅碳氧网络中的结构，非晶的硅碳氧网络由Si-O键合和Si-C键合形成。本发明的低辐射玻璃在浮法在线生产线的锡槽内利用化学气相沉积法制备而成，工艺简单，通过调节阻挡层折射率，能减少玻璃基体与氧化锡掺氟膜膜层之间的界面反射，同时可以保证较好的电学性能和力学性能，可弯曲、可钢化，适用于建筑节能镀膜玻璃以及薄膜太阳能电池领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 硅碳氧 阻挡 薄膜 辐射 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃，包括玻璃基板和氧化锡掺氟膜层，其特征是在玻璃基板与氧化锡掺氟膜层之间有1～5层硅碳氧薄膜，每层硅碳氧薄膜的厚度为5～30nm，从玻璃基板往氧化锡掺氟膜层方向逐渐变薄，折射率从1.6至1.7呈梯度变化，每层硅碳氧薄膜为纳米硅晶粒镶嵌于非晶的硅碳氧网络中的结构，非晶的硅碳氧网络由Si‑O键合和Si‑C键合形成。
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