[发明专利]用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置有效
| 申请号： | 201210436061.3 | 申请日： | 2012-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103265829A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 孙晟豪;金润凤;张元硕;赵容均 | 申请（专利权）人： | SK新技术株式会社 |
| 主分类号： | C09D4/00 | 分类号： | C09D4/00;C09D4/02;G02B1/11;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 经志强;王莹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本发明提供用于低折射层的含有下面化学式1的含氟化合物的涂覆组合物、使用该组合物的抗反射膜，以及含有该抗反射膜的偏光片与图像显示装置，其中下述化学式1的含氟化合物具有低的折光率1.28-1.40，从而能够容易地调节抗反射膜的折光率，并且有效地用作抗反射膜的涂层材料，该反射膜具有优异的机械性能例如耐久性等。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 用于 折射 含有 氟化 组合 反射 偏光 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于低折射层的涂覆组合物，其含有化学式1表示的含氟化合物[化学式1]![]()
在化学式1中，R1-R4各自独立地为氢、(C1-C20)烷基或(C6-C20)芳基，且R1和R2不同时为氢；m和n各自独立地为2-10的整数；A、B、D和E各自独立地为氢、氟或(C1-C4)烷基，前提是氟含量占A、B、D和E的总原子含量的50%或更多；以及R1-R4的烷基和芳基可进一步被氟取代。
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