[发明专利]一种高光电转换率晶体硅太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210394170.3 申请日: 2012-10-17
公开(公告)号: CN102881732A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 刘铸;肖辉;徐哲;冯苑飞 申请(专利权)人: 云南大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 代理人: 姜开侠;姬介南
地址: 650091*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高光电转换率晶体硅太阳能电池及其制造方法,所述电池包括晶体硅P-N结衬底;与晶体硅P-N结衬底P区欧姆接触的背电极;与晶体硅P-N结衬底N区欧姆接触的前栅电极;前栅电极细栅被包覆于减反射层之下;位于晶体硅P-N结衬底N区表面的SiO2层及其上的减反射层。所述制造方法包括清洗制绒步骤、扩散制结步骤、洗磷和刻蚀步骤、制备背电极步骤、光诱导电镀前栅电极步骤、氧化烧结步骤、电镀前栅电极步骤、制备减反射层步骤。本发明采用光诱导电镀前栅电极、氧化烧结,具有生产工艺简单、效率高、成本低和太阳能电池前栅电极阴影损失小、接触电阻及体电阻低、细前栅电极不易断线、电池表面反射率低、光电转化效率高的特点。
搜索关键词: 一种 光电 转换率 晶体 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种高光电转换率晶体硅太阳能电池,包括晶体硅P‑N结、P区背电极,所述的P区背电极与晶体硅P‑N结电性连接,晶体硅P‑N结之N区表面设置前栅电极,其特征是:所述的前栅电极由电化学沉积形成且与晶体硅P‑N结之N区的高导电性金属构成,所述的晶体硅P‑N结之N区表面由内至外设置SiO2层和减反射层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南大学,未经云南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210394170.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top