[发明专利]一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置无效
| 申请号： | 201210351729.4 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103658977A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;宁军;高永强 | 申请（专利权）人： | 昆山思拓机器有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/062 | 分类号： | B23K26/062;B23K26/064;B23K26/362;B23K26/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215347 江苏省苏州市昆山*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，可以将激光束能量分布的模式由高斯模式转换为等功率分布，整形后的光束所照可以将照射部位薄膜均匀去除，即去除薄膜厚度一致。本发明公开的刻蚀装置包括支撑机构和等功率分布整形光路机构，所述支撑机构包括上支撑装置和下支撑装置，所述上下支撑装置各包含一套等功率分布整形光路机构，用于提供等功率激光束。高斯模式激光束在使用过程中，由于能量分布中间大四周小，蚀刻过程中往往在双面ITO玻璃加工边缘出现残留，造成产品加工问题，而等功率激光束则可以很好的解决这个问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 光斑 刻蚀 双面 ito 玻璃 装置 | ||
【主权项】：
一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，包括：等功率分布整形光路机构，所述等功率分布整形光路机构包括光束整形部件,所述光束整形部件用于将高斯模式激光束转变为等功率分布激光束；和支撑机构，所述支撑机构包括上支撑机构和下支撑机构，所述上下支撑机构各包含有所述等功率分布整形光路机构；和激光器。
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