[发明专利]基于全息干涉术的光子晶体制造装置有效

专利信息
申请号: 201210332492.5 申请日: 2012-09-07
公开(公告)号: CN102798930A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 任雪畅;沈少鑫;李彦双;刘守 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138;G02B5/32;G03F7/20
代理公司: 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人: 马应森;刘勇
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 基于全息干涉术的光子晶体制造装置,涉及光子晶体制造装置。依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经显影流程得大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。所述入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度的设定值为15°~23.5°。
搜索关键词: 基于 全息 干涉 光子 晶体 制造 装置
【主权项】:
基于全息干涉术的光子晶体制造装置,其特征在于依次设有激光器,空间滤波器,全息光学元件,1/2波片和光刻胶板;激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生四束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的其中1个出光口之后,入射1/2波片的线偏振光的振动方向与1/2波片晶体表面光轴间的角度为设定值,四束光重叠射在光刻胶板上,在光刻胶板上对四束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到大面积周期性间隙阵列结构的光子晶体。
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