[发明专利]无眩光低反射玻璃面的制造方法

摘要

发明公开一种无眩光低反射玻璃面的制造方法：提供至少包含一欲加工表面的玻璃基板；第一蚀刻液，其由10%至35%的水溶性无机盐类、5%至60%的酸液、0.5%至5%的分散剂、1%至10%的稳定剂以及去离子水等混合而成；将第一蚀刻液作用于玻璃基板的欲加工表面，以在表面形成多数细小凹坑，使表面粗糙化达降低反射光的效果；第二蚀刻液，其由氢氟酸、无机酸、改质剂以及去离子水等混合而成；将第二蚀刻液作用于经过第一蚀刻制程的欲加工表面，以将欲加工表面上的细小凹坑的形状钝化、降低凹坑的深浅差异度，使欲加工表面的粗糙度均一化并提升表面的光泽度，因此可大幅度提升玻璃面的光透射性，形成具有高透光率的无眩光低反射玻璃面。

主权项

一种无眩光低反射玻璃面的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：a、提供一玻璃基板，其至少包含一欲加工表面；b、提供第一蚀刻液，其材料成分至少包含水溶性无机盐类、酸液、分散剂、稳定剂以及去离子水；c、进行第一蚀刻制程：将所述第一蚀刻液作用于所述玻璃基板的欲加工表面，使该第一蚀刻液温度维持在40℃至50℃之间，作用时间约10至30分钟，然后对所述欲加工表面施予清洗以去除残留的所述第一蚀刻液后，可制成具低反射表面的玻璃基板；d、提供第二蚀刻液，其材料成分至少包含氢氟酸、无机酸、改质剂以及去离子水；以及e、进行第二蚀刻制程，将所述第二蚀刻液作用于经所述第一蚀刻制程所得的玻璃基板欲加工表面，使所述第二蚀刻液温度维持在40℃至50℃之间，作用时间约20至40分钟，然后对所述欲加工表面施予清洗以去除残留的所述第二蚀刻液并进行干燥后，获得一无眩光低反射表面的玻璃基板。