[发明专利]辐射温度场加速腐蚀的研抛装置有效
| 申请号： | 201210292349.8 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102794698A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/015 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种辐射温度场加速腐蚀的研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。该辐射温度场加速腐蚀的研抛装置，包括用于承载被加工元件的承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内；配置有透明磨具，与被加工工件机械接触；温度场生成设备与控制机构连接；所述承载机构和腐蚀液储液槽均固定设置于旋转轴上。本发明可实现非球面光学元件的快速抛光，适合与大口径光学元件的研磨抛光，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 温度场 加速 腐蚀 装置 | ||
【主权项】：
一种辐射温度场加速腐蚀的研抛装置，包括用于承载被加工元件的承载机构，其特征在于：还包括腐蚀液储液槽，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内；配置有透明磨具，与被加工工件机械接触；温度场生成设备与控制机构连接；所述承载机构和腐蚀液储液槽均固定设置于旋转轴上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所，未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210292349.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于估计废气再循环量的装置
- 下一篇：复合木板切割机专用刀板
