[发明专利]具有无发射极区的太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210291496.3 申请日: 2012-08-16
公开(公告)号: CN102820343A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 沈辉;陈达明 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司;中山大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王凌霄
地址: 213031 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及太阳能电池技术领域,特别是一种具有无发射极区的太阳能电池及其制备方法。该太阳能电池在主栅下具有无发射极区,主栅覆盖的区域大于无发射极区,硅基体受光面的无发射极区外的其他区域为具有发射极的发射极区,主栅和硅基体之间具有隔绝主栅和硅基体的介质膜。其制备方法为:在热扩散或者离子注入掺杂工艺中,通过扩散掩模或离子注入挡板保护主栅下的无发射极区,在无发射极区外的其他区域形成均匀发射极或选择性发射极,然后在硅基体的受光面镀介质膜,在介质膜上制作栅线。本发明的有益效果是:将主栅下的区域设为无发射极,可以进一步降低电池的反向饱和电流,同时利用介质膜钝化,提高电池开路电压和短路电流。
搜索关键词: 有无 发射极 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有无发射极区的太阳能电池,包括硅基体,在硅基体受光面上具有栅线,栅线分为细栅(2)和汇集细栅(2)电流的主栅(4),其特征是:在所述的硅基体的受光面上具有发射极区和无发射极区,无发射极区位于主栅覆盖区域内,主栅(4)和无发射极区的硅基体通过介质膜(5)隔离,细栅(2)与无发射极区(3)的硅基体不接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州天合光能有限公司;中山大学,未经常州天合光能有限公司;中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210291496.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top