[发明专利]光学特性测量装置以及光学特性测量方法有效

专利信息
申请号: 201210285463.8 申请日: 2012-08-10
公开(公告)号: CN102954765A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 山崎雄介;冈本宗大 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/21
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光学特性测量装置以及光学特性测量方法。光学特性测量装置(100)具备光源(10)、检测器(40)以及数据处理部(50)。数据处理部(50)具备建模部、分析部以及拟合部。将多个膜模型方程式联立,假设包含在多个膜模型方程式中的光学常数相同来进行规定的运算,通过进行将算出的膜的膜厚以及光学常数代入膜模型方程式而获得的波形与由检测器(40)获取的波长分布特性的波形的拟合来判定包含在多个膜模型方程式中的光学常数是否相同,由分析部算出的膜的膜厚以及光学常数是否为正确的值。
搜索关键词: 光学 特性 测量 装置 以及 测量方法
【主权项】:
一种光学特性测量装置,具备:光源,其向在基板上形成有至少一层膜的被测量物照射具有规定的波长范围的测量光;分光测量部,其基于被上述被测量物反射的光或者透过了上述被测量物的光来获取反射强度或者透射强度的波长分布特性;建模部,其生成多个膜模型方程式,各膜模型方程式至少包含上述膜的膜厚、上述膜的光学常数以及对于相同材料的上述膜获取多个上述波长分布特性并根据获取到的各个上述波长分布特性计算出的参数;分析部,其将由上述建模部生成的多个上述膜模型方程式联立,假设包含在多个上述膜模型方程式中的上述光学常数相同来进行规定的运算,计算上述膜的上述膜厚以及上述光学常数;以及拟合部,其进行将由上述分析部计算出的上述膜的上述膜厚以及上述光学常数代入上述膜模型方程式而获得的波形与由上述分光测量部获取到的上述波长分布特性的波形的拟合,由此来判定包含在多个上述膜模型方程式中的上述光学常数是否相同且由上述分析部计算出的上述膜的上述膜厚以及上述光学常数是否为正确的值。
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