[发明专利]用于平板显示器的化学气相沉积装置无效
申请号: | 201210284965.9 | 申请日: | 2012-08-06 |
公开(公告)号: | CN102978585A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 金荣敏;李春秀;权泰均;朴美星;郑元基 | 申请(专利权)人: | SFA工程股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 施浩 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开一种用于平板显示器的化学气相沉积(chemical vapor deposition;CVD)装置,所述装置包括:基座,用于支撑基板;真空室,在所述真空室中对所述基板执行沉积工艺,且所述真空室包括形成于其底部中心区域上并使用于向上/向下移动所述基座的柱穿过其中的柱通孔、以及与所述柱通孔间隔开的真空抽吸端口;以及真空抽吸控制单元,其与所述真空抽吸端口相连接并控制所述真空室中的抽吸位置。 | ||
搜索关键词: | 用于 平板 显示器 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种用于平板显示器的化学气相沉积装置,所述装置包括:基座,用于支撑基板;真空室,在所述真空室中对所述基板执行沉积工艺,且所述真空室包括:柱通孔,形成于所述真空室的底部中心区域上并使用于向上/向下移动所述基座的柱穿过其中;以及真空抽吸端口,与所述柱通孔间隔开;以及真空抽吸控制单元,其与所述真空抽吸端口相连接并控制所述真空室中的抽吸位置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的