[发明专利]一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法

摘要

本发明公开了一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法，包括：确定样品待测结构参数的变化范围并对其执行离散化处理，将所获得的离散网格点及其对应理论光谱值储存到光谱库中；获得待测样品的测量光谱并计算出离散网格点对应的测量光谱值与理论光谱值之间的拟合误差，然后将其同样储存到光谱库中；为拟合误差设定阈值并执行粗搜索，利用搜索出的拟合误差所对应的离散网格点来构建候选参数集，并对拟合误差执行多维插值处理获得相应的拟合误差插值函数；基于拟合误差插值函数细搜索找出全局最优点，其所对应的参数值即为最终确定的结构参数。通过本发明，能够提高库匹配过程的测量分辨率和准确度，并具备快速和便于操作的优点。

主权项

一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法，该方法包括下列步骤：（a）根据工艺条件确定待测样品结构参数的变化范围，对该范围按照预设的步长δ执行离散化处理以获得多个离散网格点，并将这些离散网格点及其各自对应的理论光谱值储存到光谱库中；（b）利用光学散射测量装置对待测样品进行测量以获得测量光谱，计算出所述离散网格点各自对应的测量光谱值与理论光谱值之间的拟合误差，然后将这些拟合误差同样储存到光谱库中；（c）为步骤（b）所计算出的拟合误差设定阈值，将光谱库中落入该阈值的拟合误差搜索出来，并利用这些搜索出的拟合误差所对应的离散网格点来构建候选参数集；此外，对所述拟合误差执行多维插值处理并获得相应的拟合误差插值函数，由此为待测样品结构参数与拟合误差之间建立函数对应关系；（d）基于所述拟合误差插值函数进行搜索以找出其全局最优点，该全局最优点所对应的参数值即为最终确定的待测样品结构参数，所述找出全局最优点的过程具体通过以下两种方式之一来实现：（d1）以步骤（c）所构建的候选参数集中的离散网格点为中心且半径不超出所述预设步长δ作为搜索范围，在该搜索范围内以与所述步长δ相比更小的步长δ′执行离散化处理，由此获得多个新的离散网格点并求出其对应的拟合误差，其中拟合误差中的最小值所对应的点即为全局最优点；或者（d2）将步骤（c）所构建的候选参数集中的离散网格点作为初始迭代值，并采用约束优化算法直接求出全局最优点。