[发明专利]羟基磷灰石表面膜层及其制备方法有效
| 申请号： | 201210265084.2 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN103572346A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 林理文;林昌健;杨云;王蕾 | 申请（专利权）人： | 北京纳通科技集团有限公司 |
| 主分类号： | C25D9/08 | 分类号： | C25D9/08;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;郑特强 |
| 地址： | 100082 北京市海淀区德胜*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种单一组分羟基磷灰石表面膜层的制备方法，包括以下步骤：对基底材料进行表面预处理；进行电化学沉积，在基底材料表面形成微纳米级有序的磷酸八钙膜层，电解液为浓度为0.02-0.05mol/L的Ca(NO3)2和浓度为0.02-0.03mol/L的NH4H2PO4混合水溶液，电流密度为0.5-1.0mA/cm2，温度为65-85℃，时间为10-20分钟；进行水热处理，在基底材料表面获得与上一步骤得到的结构相同的羟基磷灰石膜层。由此方法制备的羟基磷灰石表面膜层的微观晶体形貌是微纳米级长带状结构，其基本构造单元是宽为200-600nm的带状晶体，带状晶体之间相互编织成孔径为10-20μm的多孔状。 | ||
| 搜索关键词： | 羟基 磷灰石 表面 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种制备羟基磷灰石表面膜层的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）对基底材料进行表面预处理；（2）进行电化学沉积，在基底材料表面形成微纳米级有序的磷酸八钙膜层，电解液为浓度为0.02‑0.05mol/L的Ca(NO3)2和浓度为0.02‑0.03mol/L的NH4H2PO4混合水溶液，电流密度为0.5‑1mA/cm2，温度为65‑85℃，时间为10‑20分钟；（3）进行水热处理，在基底材料表面获得与步骤（2）得到的结构相同的单一组分的羟基磷灰石膜层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京纳通科技集团有限公司，未经北京纳通科技集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210265084.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种智能楼宇管理系统
- 下一篇：基于PET的图像重建的投影方法和装置
