[发明专利]一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法有效
| 申请号： | 201210264858.X | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102759638A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 李剑;唐涌耀 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01Q60/24 | 分类号： | G01Q60/24;G01Q60/38 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法，包括下列步骤：将样品研磨到待测点金属层；在所述研磨好的样品上均匀覆盖一层有机掩模层；去除所述样品待测点金属层上的有机掩模层；将高硬度导电材料覆盖到待测点金属层上；使用有机溶剂去除所述样品上的有机掩模。本发明提出的利用原子力纳米探针测试金属层的方法，有效地解决了原子力纳米探针(AFP)不容易通过金属层测试样品的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 原子 纳米 探针 测试 金属 方法 | ||
【主权项】：
一种利用原子力纳米探针测试金属层的方法，其特征在于，包括下列步骤：将样品研磨到待测点金属层；在所述研磨好的样品上均匀覆盖一层有机掩模层；去除所述样品待测点金属层上的有机掩模层；将高硬度导电材料覆盖到待测点金属层上；使用有机溶剂去除所述样品上的有机掩模。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210264858.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种工业遥控器及其节能控制方法
- 下一篇：一种混合动力车辆扭矩控制方法
