[发明专利]一种光学邻近矫正装置及矫正方法有效
| 申请号： | 201210261737.X | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN103576442A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陈洁;王谨恒;万金垠;张雷 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光学邻近矫正装置和矫正方法，通过在现有的矫正装置中加入图形预处理模块，对关键器件图形和虚拟器件图形进行叠加处理，并判断出是否存在重叠错误，从而避免了现有技术中由于该重叠错误的判断程序而导致的光刻版错误或报废问题，大大节省了工艺时间，降低了工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 邻近 矫正 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光学邻近效应矫正装置，其特征在于：所述光学邻近效应矫正装置包括一图形预处理模块，该图形预处理模块包括图形叠加单元、输出单元和判断单元，所述图形叠加单元对一关键器件图形和一虚拟器件图形进行叠加并将叠加图形通过所述输出单元输出给所述判断单元。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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