[发明专利]薄膜状高分子结构体和其制备方法无效
申请号: | 201210206346.8 | 申请日: | 2007-10-29 |
公开(公告)号: | CN102731813A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 武冈真司;冈村阳介;藤枝俊宣;宇都宫沙织;后藤隆宏 | 申请(专利权)人: | 武冈真司 |
主分类号: | C08J7/12 | 分类号: | C08J7/12;C08J5/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 高旭轶;郭文洁 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供薄膜状高分子结构体及其制备方法。本发明的薄膜状高分子结构体是在表面(A面)和背面(B面)具有功能性物质的薄膜状高分子结构体,通过以下的工序来得到:(a)在基体的与液相的界面的任意形状的区域吸附多官能性分子的工序、(b)将吸附的多官能性分子进行聚合和/或交联来形成高分子的薄膜的工序、(c)在形成的薄膜的A面结合功能性物质的工序、(d)在薄膜上形成可溶性支持膜、并将该薄膜和支持膜从基体剥离的工序、(e)在薄膜的B面上功能性物质后,利用溶剂使可溶性支持膜溶解的工序。 | ||
搜索关键词: | 薄膜状 高分子 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
薄膜状高分子结构体,其在膜的表面(A面)和背面(B面)具有功能性物质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武冈真司,未经武冈真司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210206346.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。