[发明专利]薄膜状高分子结构体和其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210206346.8 申请日: 2007-10-29
公开(公告)号: CN102731813A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 武冈真司;冈村阳介;藤枝俊宣;宇都宫沙织;后藤隆宏 申请(专利权)人: 武冈真司
主分类号: C08J7/12 分类号: C08J7/12;C08J5/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 高旭轶;郭文洁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供薄膜状高分子结构体及其制备方法。本发明的薄膜状高分子结构体是在表面(A面)和背面(B面)具有功能性物质的薄膜状高分子结构体,通过以下的工序来得到:(a)在基体的与液相的界面的任意形状的区域吸附多官能性分子的工序、(b)将吸附的多官能性分子进行聚合和/或交联来形成高分子的薄膜的工序、(c)在形成的薄膜的A面结合功能性物质的工序、(d)在薄膜上形成可溶性支持膜、并将该薄膜和支持膜从基体剥离的工序、(e)在薄膜的B面上功能性物质后,利用溶剂使可溶性支持膜溶解的工序。
搜索关键词: 薄膜状 高分子 结构 制备 方法
【主权项】:
薄膜状高分子结构体,其在膜的表面(A面)和背面(B面)具有功能性物质。
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