[发明专利]一种二极管清洗工艺及其清洗设备

摘要

本发明公开了一种二极管清洗工艺，超声波清洗、超声波精洗、超声波漂洗、超声波一次脱水及超声波二次脱水，本发明还公开了这种二极管清洗工艺所需的工艺设备，括操作台，所述的操作台上依次设置有，超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽，所述的超声波清洗槽、超声波精洗槽、超声波漂洗槽、IPA超声波一次脱洗槽和IPA超声波二次脱洗槽顺序连接；所述的设备还包括用于启动操作台平移的平移气缸以及用于启动操作台升降的升降气缸。

主权项

一种二极管清洗工艺，其特征在于，包括如下步骤：a、超声波清洗：将待清洗的二极管放入到超声波清洗槽中，功率控制在1500~2500W范围内，频率控制在28~40KHZ范围内，水流速度控制在16L/min范围内，采用电阻率大于12Ω·m，且温度在20~45℃范围内的纯水进行超声波清洗60~180s；b、超声波精洗：将经上述超声波清洗的二极管放入到超声波精洗槽中，功率控制在1500~2500W范围内，频率控制在28~40KHZ范围内，水流速度控制在16L/min范围内，采用电阻率大于12Ω·m，且温度在20~45℃范围内的纯水进行超声波精洗60~180s；c、超声波漂洗：将经上述超声波精洗的二极管放入到超声波漂洗槽中，功率控制在1500~2500W范围内，频率控制在28~40KHZ范围内，水流速度控制在16L/min范围内，采用电阻率大于12Ω·m，且温度在20~45℃范围内的纯水进行超声波漂洗60~180s；d、超声波一次脱水：将经上述超声波漂洗的二极管放入到IPA超声波一次脱洗槽中，功率控制在1500~2500W范围内，频率控制在28~40KHZ范围内，采用电阻率大于20Ω·m的异丙醇进行超声波一次脱水60~180s；e、超声波二次脱水：将经上述超声波漂洗的二极管放入到IPA超声波二次脱洗槽中，功率控制在1500~2500W范围内，频率控制在28~40KHZ范围内，采用电阻率大于20Ω·m的异丙醇进行超声波二次脱水60~180s。