[发明专利]改善纳米硅研磨液分散性能的方法有效
| 申请号： | 201210169021.7 | 申请日： | 2012-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN102702796A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 刘祥;岳敏;肖翠翠;黄友元 | 申请（专利权）人： | 深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09C1/28 | 分类号： | C09C1/28;C09C3/10;C09C3/08 |
| 代理公司： | 深圳市中知专利商标代理有限公司 44101 | 代理人： | 孙皓;林虹 |
| 地址： | 518106 广东省深圳市光明*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种改善纳米硅研磨液分散性能的方法，要解决的技术问题是提高纳米硅储存性能和加工性能。本发明的方法，包括以下步骤：在硅粉中，加入分散介质得到硅研磨液，在硅研磨液中加入研磨媒体，得到砂磨后的硅研磨液，在砂磨后的硅研磨液中添加阴离子分散剂，得到纳米硅研磨液。本发明与现有技术相比，利用强电解质阴离子分散剂吸附分散在纳米硅颗粒上，对纳米硅颗粒进行改性处理，阴离子吸附在纳米硅颗粒上使纳米硅带上负电荷，负电荷之间的排斥力使纳米硅颗粒分散并悬浮在分散介质中，从而改善了纳米硅研磨液中纳米硅的分散性，抑制纳米硅在储存和使用过程中发生团聚，提高了其储存性能和加工性能。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 纳米 研磨 分散 性能 方法 | ||
【主权项】：
一种改善纳米硅研磨液分散性能的方法，包括以下步骤：一、在粒径为50～80μm、硅含量≥90%的粗硅粉中，加入分散介质调节硅粉质量固含量为10～35%，转速为800～1500r/min，粗磨10～45h得到硅研磨液；所述分散介质为非水溶剂；二、在硅研磨液中加入研磨媒体，研磨媒体与硅粉的质量比为2～3.5∶1，添加分散介质使硅粉和研磨媒体的质量固含量为10～25%，砂磨时间20～80h，转速为1500～2700r/min，得到砂磨后的硅研磨液；三、按粗硅粉质量的0.1～5%，在砂磨后的硅研磨液中添加强电解质阴离子分散剂，转速500～2500r/min，时间15～30min，得到纳米硅研磨液；所述电解质阴离子分散剂为木质素磺酸盐系、聚烯烃磺酸盐系、磺酸盐系、腐植酸系或硫酸酯盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司，未经深圳市贝特瑞新能源材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210169021.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
