[发明专利]原料气体发生装置

摘要

一种原料气体发生装置，抑制原料气体的浓度降低。该原料气体发生装置（101）对容器（111）内的固体原料（102）进行加热，产生CVD加工用的原料气体。经由通气管（113）导入到容器（111）内的运载气体通过气体扩散部件（115）的扩散体（131）进行扩散，并从开口部（115A）向垂直下方向喷出。由固体原料102产生的原料气体与运载气体一起从固体原料（102）的上方经由通气管（116）向容器（111）之外排出。本发明例如可适用于产生CVD加工用的原料气体的原料气体发生装置。

主权项

一种原料气体发生装置，从由盖密闭的容器内的固体原料产生原料气体，其特征在于，具备：导入部件，其在前端部具有将用于输送所述原料气体的运载气体向所述容器内导入的第一开口部；扩散部件，其在所述原料的上方以堵塞所述第一开口部的方式设置，对导入到所述容器内的所述运载气体进行扩散，并具有第二开口部，该第二开口部使扩散的所述运载气体向垂直下方向喷出；排出部件，其将所述原料气体与所述运载气体一起从所述原料的上方向所述容器之外排出。