[发明专利]一种液相法生产高纯电子级氟化铵蚀刻液的方法无效
| 申请号： | 201210112697.2 | 申请日： | 2012-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN102627298A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 程文海;田志扬;王凌振;余永林;唐隆晶;潘绍忠;周涛涛;贝宏 | 申请（专利权）人： | 浙江凯圣氟化学有限公司;巨化集团公司 |
| 主分类号： | C01C1/16 | 分类号： | C01C1/16 |
| 代理公司： | 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 | 代理人： | 程晓明 |
| 地址： | 324004 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种液相法生产高纯电子级氟化铵蚀刻液的方法，将质量百分浓度为49～70％的高纯HF水溶液和质量百分浓度为27～33％的高纯氨水溶液，按质量比1∶1.3～2.3进行中和反应，控制反应温度为10～50℃，至反应液PH值为6～7时结束反应，过滤去除粒径大于0.2微米的颗粒杂质后，即得到质量百分浓度为40±0.2％的高纯电子级氟化铵蚀刻液，本发明生产效率高、安全环保、产品质量稳定，各金属离子含量分别小于0.1ppb，大于0.2微米的颗粒杂质为20PCS/ml以内，大于0.3微米的颗粒杂质为10PCS/ml以内，大于0.5微米的颗粒杂质为2PCS/ml以内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液相法 生产 高纯 电子 氟化 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
一种液相法生产高纯电子级氟化铵蚀刻液的方法，其特征在于将质量百分浓度为49～70％的高纯HF水溶液和质量百分浓度为27～33％的高纯氨水溶液，按质量比1∶1.3～2.3进行中和反应，控制反应温度为10～50℃，至反应液PH值为6～7时结束反应，过滤去除颗粒杂质后，即得到质量百分浓度为40±0.2％的高纯电子级氟化铵蚀刻液。
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