[发明专利]一种盐霉素分子印迹聚合物及其制备方法

摘要

本发明提供一种盐霉素分子印迹聚合物及其制备方法，按如下步骤制得：1)将盐霉素、功能单体、交联剂、引发剂与致孔剂均匀混合，制成混合液，其摩尔比为盐霉素∶功能单体：交联剂∶引发剂＝1∶（3-10）：（15-50）∶（0.9-1.6）；2)所述混合液经超声脱气5-10min，通氮气5-10min除去氧分子后密闭，然后采用热引发方式进行原位聚合，热引发条件为45-75℃，反应12-36小时，得到含有盐霉素的高分子聚合物；3)将步骤2)所得聚合物研磨成粉末状，用15-45％乙酸和甲醇混合溶液洗涤去除模板分子，再用甲醇提取除去乙酸，真空干燥。由此制得的盐霉素分子印迹聚合物对盐霉素具有特异的亲和性和高度选择性，可用于提取、分离、富集、检测盐霉素分子。

主权项

一种盐霉素分子印迹聚合物，其特征在于，所述聚合物具有模板分子盐霉素的印迹位点，其由下述摩尔份单体组分按如下步骤制得： 1) 将盐霉素、功能单体、交联剂、引发剂与致孔剂均匀混合，制成混合液，其摩尔比为盐霉素∶功能单体：交联剂∶引发剂＝1∶（3‑10）：（15‑50）∶（0.9‑1.6）；2) 所述混合液经超声脱气5‑10min，通氮气5‑10min除去氧分子后密闭，然后采用热引发方式进行原位聚合，热引发条件为45‑75℃，反应12‑36小时，得到含有盐霉素的高分子聚合物；3) 将步骤2)所得聚合物研磨成粉末状，用15‑45％乙酸和甲醇混合溶液洗涤去除模板分子，再用甲醇提取除去乙酸，真空干燥，得到盐霉素分子印迹聚合物， 其中，所述功能单体为甲基丙烯酸羟乙基酯羟乙基酯或亚甲基丁二酸，所述交联剂为N，N‑1，4‑亚苯基二丙烯酰胺或二乙烯基苯，所述引发剂为偶氮二异庚腈或过氧化苯酰，所述致孔剂为乙腈或氯仿。