[发明专利]立式分批式成膜装置有效
申请号: | 201210091746.9 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN102732856A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 远藤笃史;黑川昌毅;入宇田启树 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/205 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种立式分批式成膜装置,该立式分批式成膜装置具有:处理室,其用于一并对多个被处理体进行成膜;加热装置,其用于加热被处理体;排气机构,其用于对处理室的内部进行排气;收容容器,其用于收容处理室;气体供给机构,其用于向收容容器的内部供给处理所使用的气体;多个气体导入孔,其设于处理室的侧壁,处理所使用的气体经由多个气体导入孔以与多个被处理体的处理面平行的气流向处理室的内部供给,并且在处理室内未设定炉内温度梯度就一并对多个被处理体进行成膜。 | ||
搜索关键词: | 立式 分批 式成膜 装置 | ||
【主权项】:
一种立式分批式成膜装置,其用于一并对多个被处理体进行成膜,其特征在于,该立式分批式成膜装置具有:处理室,其用于以将多个被处理体沿着高度方向叠置的状态收容该多个被处理体,一并对上述多个被处理体进行成膜;加热装置,其用于对收容在上述处理室内的上述多个被处理体进行加热;排气机构,其用于对上述处理室的内部进行排气;收容容器,其用于收容上述处理室;气体供给机构,其用于向上述收容容器的内部供给处理所使用的气体;多个气体导入孔,其设于上述处理室的侧壁,用于使上述处理室与上述收容容器相连通,该立式分批式成膜装置将上述处理所使用的气体经由上述多个气体导入孔以与上述多个被处理体的处理面平行的气流向上述处理室的内部供给,并且在上述处理室内不设定炉内温度梯度就一并对上述多个被处理体进行成膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的