[发明专利]一种使用低浓度碱溶液制作黑硅材料的方法

摘要

本发明公开了一种使用低浓度碱溶液制作黑硅材料的方法,规定的碱溶液的浓度为0.2%-1.9%重量比含量之间的一个确定值，将碱溶液加热到20℃-90℃之间的一个确定温度，然后将清洗并抛光过的晶体硅片浸入这个碱溶液中，同时对碱溶液施加超声波，在硅片表面上刻蚀出丛林结构或者密集分布洞穴形态的黑硅。本发明工艺过程简单、成本低廉、几乎不产生对环境有害的物质。

主权项

一种使用低浓度碱溶液制作黑硅材料的方法,其特征是：将清洗并抛光过的硅片浸入在规定浓度的低浓度碱溶液中，碱溶液浓度的选择范围是重量比含量0.2%‑1.9%，同时对碱溶液施加超声波。