[发明专利]一种应用于非金属材料的碳—金属嵌渗式导电膜制备方法无效

专利信息
申请号: 201210089797.8 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN102810347A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 朱彦文;穆俊江;吴天和;郑秀玉;区柱石;谢赟;何爱忠 申请(专利权)人: 梧州三和新材料科技有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 543008 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 一种应用于非金属材料的碳—金属嵌渗式导电膜制备方法,先在非金属材料上形成碳导电膜,再用高能态的金属原子团轰击非金属材料上的碳导电膜,使金属原子团嵌渗到碳导电膜内部,形成碳—金属嵌渗式导电膜。本发明涉及一种应用于非金属材料的碳—金属嵌渗式导电膜制备方法。本发明能够在非金属材料上形成一层既有别于碳导电膜、又有别于金属导电膜的碳—金属嵌渗式膜层,从而产生特殊的导电效果和功能。
搜索关键词: 一种 应用于 非金属材料 金属 嵌渗式 导电 制备 方法
【主权项】:
一种应用于非金属材料的碳—金属嵌渗式导电膜制备方法,其特征是:(1)先在非金属材料上形成碳导电膜;(2)用高能态的金属原子团轰击非金属材料上的碳导电膜,使金属原子团嵌渗到碳导电膜内部,形成碳—金属嵌渗式导电膜。
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