[发明专利]透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列

摘要

本发明公开了一种透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列，可生产出满足形状要求和尺寸要求的透镜阵列，尤其适合生产大型透镜阵列。该透镜阵列坯的生产方法主要是在模压后依次进行一次退火、面型校正和二次退火。该透镜阵列生产方法是利用上述透镜阵列坯进行抛光工序制成。本发明的方法尤其适合生产长度为300～1200mm，宽度为300～600mm的大型透镜阵列。生产出的大型透镜阵列的轮廓度在0.015mm以下，光学透过率达到90％以上。

主权项

透镜阵列坯的生产方法，包括依次进行的坯料制造、软化、模压和退火，所述坯料制造步骤中所用坯料为玻璃坯料，其特征是：所述退火为一次退火：将模压后得到的坯料在700℃～400℃通过逐渐降温进行退火处理；面型校正：对一次退火后得到的坯料进行面型校正，在300℃～400℃通过上下两块压板对位于上下两块压板之间的坯料施加压力；二次退火：将面型校正后得到的坯料在600℃～300℃通过逐渐降温进行退火处理。