[发明专利]一种新型的兼容数字式和模拟式的超宽带衰减器无效

专利信息
申请号: 201210078081.8 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN102624355A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 戴永胜;孙宏途;康其桔;戚湧;汉敏;尹洪浩;李平;谢秋月;韩群飞;冯媛;左同生;范小龙;郭风英;吴建星;韦晨君;李旭;吴迎春;陈建锋;王立杰;陈少波;徐利;周聪;张红;陈曦;於秋杉;杨健 申请(专利权)人: 南京理工大学常熟研究院有限公司
主分类号: H03H11/00 分类号: H03H11/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱显国
地址: 215513 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种新型的兼容数字式和模拟式的超宽带衰减器,是一种低插入相移的衰减器集成电路,并且兼容数字式和模拟式。电压控制可变衰减器,被广泛应用于现代高级电子系统和设备,如自动损失控制(ALC)组件的宽频增益控制块、宽频脉冲调制器、宽频无反射的单刀单掷(SPST)开关等。电压控制可变衰减器拥有小型,轻量级,高出产量,低成本等特点,并且简单易用,低功率耗散。鉴于上述应用,可变衰减器拥有大的动态范围和低插入相移,引起社会广泛的关注。
搜索关键词: 一种 新型 兼容 数字式 模拟 宽带 衰减器
【主权项】:
一种新型的兼容数字式和模拟式的超宽带衰减器,其特征在于:该衰减器由第一微波输入端口(RFIN)、第一微波输出端口(RFOUT)、电容(C1)、第一氮化镓高电子迁移率晶体管(F1)、第二氮化镓高电子迁移率晶体管(F2)、第三氮化镓高电子迁移率晶体管(F3)、第四氮化镓高电子迁移率晶体管(F4)、第五氮化镓高电子迁移率晶体管(F5)、第一电阻(R1)、第二电阻(R2)、第三电阻(R3)、第四电阻(R4)、第五电阻(R5)、第六电阻(R11)、第七电阻(R12)、第八电阻(R13)、第九电阻(R14)、第十电阻(R15)、第一电感(L1)、第二电感(L2)、第三电感(L3)、第一二极管(PinDiode1)、第二二极管(PinDiode2)、第一控制电压(Vc11)、 第二控制电压(Vc12)、第三控制电压(Vc13)、第四控制电压(Vc14)和第五控制电压(Vc15)构成;第一微波输入端口(RFIN)一端接电容(C1)一端,电容(C1)另一端接电感(L1)一端,第一电感(L1)另一端接第二电感(L2)一端,第二电感(L2)另一端接第三电感(L3)一端,第三电感(L3)另一端接第一微波毫米波输出端口(RFOUT);第一二极管(PinDiode1)的P区接第一电感(L1)和第二电感(L2)之间,第一二极管(PinDiode1)的N区接地,第二二极管(PinDiode1)的P区接第一电感(L2)和第二电感(L3)之间,第二二极管(PinDiode1)的N区接地;第一电阻(R1)、第二电阻(R2)、第三电阻(R3)、第四电阻(R4)和第五电阻(R5)依次串联接在第一电容(C1)和第一电感(L1)之间,第五电阻(R5)的另一端接地;第一氮化镓高电子迁移率晶体管(F1)、第二氮化镓高电子迁移率晶体管(F2)、第三氮化镓高电子迁移率晶体管(F3)、第四氮化镓高电子迁移率晶体管(F4)和第五氮化镓高电子迁移率晶体管(F5)的源极和漏极依次并联在第一电阻(R1)、第二电阻(R2)、第三电阻(R3)、第四电阻(R4)和第五电阻(R5)的两端,第六电阻(R11)、第七电阻(R12)、第八电阻(R13)、第九电阻(R14)和第十电阻(R15)的一端依次接在第一氮化镓高电子迁移率晶体管(F1)、第二氮化镓高电子迁移率晶体管(F2)、第三氮化镓高电子迁移率晶体管(F3)、第四氮化镓高电子迁移率晶体管(F4)和第五氮化镓高电子迁移率晶体管(F5)的栅极,第六电阻(R11)、第七电阻(R12)、第八电阻(R13)、第九电阻(R14)和第十电阻(R15)的另一端依次接第一控制电压(Vc11)、 第二控制电压(Vc12)、 第三控制电压(Vc13)、第四控制电压 (Vc14)和 第五控制电压 (Vc15);电路中的转换场效应晶体管(MESFET)通过2.5千欧的门级电阻控制,可以为每个转换场效应晶体管(MESFET)和控制源提供足够的射频隔离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学常熟研究院有限公司,未经南京理工大学常熟研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210078081.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top