[发明专利]一种钨单晶的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210047526.6 申请日: 2012-02-28
公开(公告)号: CN102560618A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张迎春;刘艳红 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C30B9/14 分类号: C30B9/14;C30B29/02
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种钨单晶的制备方法,该方法是在熔融盐中通过电化学法制备钨单晶的:以熔融的Na2WO4与WO3为熔盐介质,在700到1000摄氏度的空气气氛下,将高纯多晶钨板作为对电极,一般性金属如铜、钢或非金属如石墨等为单晶生长的基体,同时也作为工作电极,然后施加电流,通过调整电流和电镀时间获得钨单晶。本发明工艺方法简单、设备要求简单,操作方便,成本低廉,合成条件易于控制。
搜索关键词: 一种 钨单晶 制备 方法
【主权项】:
一种钨单晶的制备方法,其特征在于,所述制备在熔融盐中进行的,步骤包括:1.1熔盐介质的配置:所述熔盐介质为Na2WO3‑WO3,按照摩尔百分比,取50%~90%的Na2WO3与10%~50%的WO3充分干燥后混合均匀,放入坩埚中,在空气气氛中升温到700~1000℃;1.2单晶生长基体和对电极的表面预处理:单晶生长基体和对电极表面用不同粗细的砂纸进行表面打磨,然后抛光,获得光滑的表面,然后分别用丙酮和去离子水超声清洗,去除表面的油污和杂质;1.3在空气气氛下施加电流调整电流参数和电镀时间:施加的电流为脉冲或直流,电流范围为10mA.cm‑2~200 mA.cm‑2,电镀时间为5小时以上。
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