[发明专利]用于熔化硅的坩埚和该坩埚使用的脱模剂无效
| 申请号： | 201210027444.5 | 申请日： | 2009-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN102589286A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 大桥忠;梅本净二郎;一木豪 | 申请（专利权）人： | 科发伦材料株式会社 |
| 主分类号： | F27B14/10 | 分类号： | F27B14/10;C30B15/10;C04B41/87 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;林宇清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及用于熔化硅的坩埚和该坩埚使用的脱模剂。根据本发明的用于熔化硅的坩埚是包括坩埚主体和至少在该坩埚主体的内表面上形成的保护膜的用于熔化硅的坩埚，该坩埚主体包括耐热部件，其中该保护膜具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。根据本发明的用于熔化硅的坩埚对于硅块具有优异的释放能力，减小硅熔料中溶入的杂质量，并且可以以低成本制造。此外，本发明提供一种在用于熔化硅的坩埚的制造中使用的脱模剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 熔化 坩埚 使用 脱模剂 | ||
【主权项】：
一种用于熔化硅的坩埚，包括坩埚主体和在坩埚主体的内表面上形成的保护膜，所述坩埚主体包括耐热材料，其中，在所述保护膜中，通过氧化膜，多个固体颗粒互相连接，在该固体颗粒中，在其表面上形成氧化膜，并且所述氧化膜的直接内层具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。
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