[发明专利]一种四氧化三钴纳米线阵列、其制备方法以及作为锂离子电池负极的用途有效
申请号: | 201210002292.3 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN102556941A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 朱丽萍;梅伟民 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | B81B7/04 | 分类号: | B81B7/04;B81C1/00;H01M4/525;H01M4/131 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 刘晓春 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种四氧化三钴纳米线阵列、其制备方法以及作为锂离子电池负极的用途。该四氧化三钴纳米线阵列,其形貌为菱形结构,菱形的边长为100nm~500nm,菱形内角的锐角为30°~60°,阵列长度为5μm~20μm。本发明还提供了制备该四氧化三钴纳米线阵列的方法,以一定摩尔比的钴盐、化学结合剂、碱性反应物和水在常温下进行混合搅拌,将混合均匀的溶液移入反应釜中,并将干净的衬底置于溶液中进行水热反应后取出冲洗,再在惰性气氛中热处理,得到四氧化三钴纳米线阵列。本发明的四氧化三钴纳米线阵列可直接作为锂离子电池负极,能明显提高电池的比容量和循环性能,放电容量高达1000mAh/g以上,是一种理想的锂离子电池电极材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化 纳米 阵列 制备 方法 以及 作为 锂离子电池 负极 用途 | ||
【主权项】:
一种四氧化三钴纳米线阵列,其特征在于,阵列形貌为菱形结构,菱形的边长为100nm ~ 500 nm,菱形内角的锐角为30°~60°,阵列长度为5μm ~20μm。
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