[实用新型]一种硅外延设备的进气口装置有效
| 申请号： | 201120479615.9 | 申请日： | 2011-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN202415738U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 赵丽霞;刘英斌 | 申请（专利权）人： | 河北普兴电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/06 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 夏素霞 |
| 地址： | 050200 河北省石*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅外延设备的进气口装置，适用于晶体硅制备技术领域。本实用新型包括石墨基座和石英托盘，所述石墨基座位于石英托盘上，且与石英托盘同心设置，在所述石墨基座的中间圆孔内同心设置有石英环。本实用新型的有益效果如下：通过在石墨基座和石英托盘之间的圆孔内设置石英环，可以在晶体硅制备过程中，防止硅外延生长时多晶硅沉积在石墨基座和石英托盘之间，导致石墨基座和石英托盘粘连在一起而影响石墨基座的使用寿命。本实用新型能够延长石墨基座和石英托盘的使用寿命，降低设备的维修成本，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 外延 设备 进气口 装置 | ||
【主权项】：
一种硅外延设备的进气口装置，包括石墨基座（1）和石英托盘（2），所述石墨基座（1）位于石英托盘（2）上，且与石英托盘（2）同心设置，其特征在于，在所述石墨基座（1）的中间圆孔内同心设置有石英环（3）。
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