[实用新型]一种真空对盒设备和真空对盒系统有效
| 申请号： | 201120184511.5 | 申请日： | 2011-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN202057930U | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | 李韡;张明亮;马博;何伟 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;B25J19/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空对盒设备和真空对盒系统，用以避免在上基板受取过程中压碎上基板，并能够根据基板特性的变化及时进行参数调整，提高真空对盒过程的适应性，并提高真空对盒的精确度和安全性，同时提高真空对盒的效率。该真空对盒设备包括上机台、下机台和控制器，还包括压力传感器。本实用新型还公开了一种真空对盒系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 设备 系统 | ||
【主权项】：
一种真空对盒设备，包括上机台、下机台和控制器，其特征在于，还包括：压力传感器，与所述上机台或下机台固定连接，用于检测真空对盒设备上机台与基板之间的压力，并传送压力信息给所述控制器。
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