[发明专利]一种纳米高气密性抗压膜及其制备方法

摘要

本发明公开一种纳米高气密性抗压膜，其由以下组份组成：PVC聚氯乙烯树脂、DOP邻苯二甲酸二辛酯、DBP邻苯二甲酸二丁酯、DCHP邻苯二甲酸二环己酯、稳定剂、改性纳米高岭土、碳酸钙和其他助剂。所述各组份经压延工艺、贴合工艺、冷却和收卷步骤得到所述的纳米高气密性抗压膜。本发明的优点为：选用DOP、DBP、DCHP复合增塑剂，保证PVC树脂塑化充分，DCHP不仅具有塑化作用，同时能使PVC薄膜结构致密，提高了制备的抗压膜的气密性；改性纳米高岭土进一步提高了抗压膜的气密性，同时赋予了抗压膜优异的物理机械性能；选用高强工业聚酯网布作为中间增强材料，使本发明的抗压膜具有极好的抗压强度。

主权项

一种纳米高气密性抗压膜，其特征在于：所述纳米高气密性抗压膜的组份及其重量份数为：PVC聚氯乙烯树脂         100份；DOP邻苯二甲酸二辛酯     10‑25份；DBP邻苯二甲酸二丁酯     10‑25份；DCHP邻苯二甲酸二环己酯  10‑15份；稳定剂                  3‑5份；改性纳米高岭土          5‑15份；碳酸钙                  5‑15份；其他助剂                1‑3份。